财联社9月27日讯（剪辑 史正丞）全球光刻机产业终于迎来了一个有些“不相通”的新家具——日本佳能公司本周文书，得手委用首台新式纳米压印光刻机。

　　这里最初需要阐述一下，佳能的纳米压印光刻（NIL）系统，与阿斯麦的光刻技巧有什么区分。

　　传统的光刻机通过将电路图案投影到涂有光刻胶的晶圆上来鼎新电路图案，佳能的成立则是通过将“印有电路图案的掩模像印记相通压入晶圆上的光刻胶中”来出产芯片。由于电路图案的鼎新不需要通过光学机制，掩模上的细巧电路图案不错在晶圆上针织再现。

　　佳能在旧年十月发布了全球首台买卖化纳米压印光刻系统FPA-1200NZ2C，公司示意这款成立不错达成最小线宽为14纳米的电路图案，超越于刻下出产先进逻辑半导体用到的5纳米节点。

　　关键上风是低廉

　　佳能示意，相较于传统光刻机需要复杂的光学镜片构造，纳米压印成立的构造更为省略，功耗仅需十分之一。同期还能通过单次压印形成复杂的三维电路图案，大致料理用于动身点进逻辑芯片的极细电路。

　　这条芯片制造道路的开垦从2014年启动。旧年底运行，佳能与铠侠 （Kioxia）、大日本印刷互助运行销售这款成立。

　　此次委用的首台成立将被送往好意思国得克萨斯电子策划所。这是得克萨斯大学奥斯汀分校补助的一个团体，成员包括英特尔和其他芯片公司、人人部门和学术组织。这台成立将被用于芯片制造的策划与开垦使命。

　　佳能光学家具副首席扩充官Kazunori Iwamoto对媒体示意，公司计较在改日3-5年内，每年销售10-20台此类成立。

　　关于佳能来说，进一步延伸纳米压印技巧也存在一些挑战。最初由于“压印”的物理机制，这种光刻机需要更先进的技巧腐烂轻飘的尘埃颗粒形成芯片舛误。同期由于芯片制造触及闲居的产业链，拓展更多公司、罕见是材料企业加入“纳米压印产业链”关于佳能来说也相称遑急。

包袱剪辑：陈钰嘉